一种提高碳化硅外延材料少数载流子寿命的方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种提高碳化硅外延材料少数载流子寿命的方法,步骤包括:步骤一,将SiC衬底放置到反应室中,并抽真空;步骤二,将氢气通入反应室,通入碳源、硅源和掺杂源进行表面处理;步骤三,通入碳源、硅源和掺杂源通入反应室中进行缓冲层生长;步骤四,进行外延层生长和外延层掺杂;步骤五,第一阶段降温:关闭硅源和掺杂源,进行氢气氛退火处理,退火结束后关闭碳源;步骤六,第二阶段降温:进行氢气氛退火处理;步骤七,重复步骤六若干次直至达到温度要求;步骤八,降低到开腔温度,打开反应室取出碳化硅外延材料。本发明提供的方法工艺过程简单,适于工业化生产;最大限度地提高载流子寿命,且可避免长时间高温退火对材料表面的破坏。

基本信息
专利标题 :
一种提高碳化硅外延材料少数载流子寿命的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334609A
申请号 :
CN202111539490.9
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王翼李赟赵志飞周平
申请人 :
中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请人地址 :
江苏省南京市秦淮区中山东路524号
代理机构 :
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 :
孙昱
优先权 :
CN202111539490.9
主分类号 :
H01L21/02
IPC分类号 :
H01L21/02  C30B29/36  C30B25/02  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/02
申请日 : 20211216
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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