应用于汉虹单晶炉的单晶退火产品的生长方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种应用于汉虹单晶炉的单晶退火产品的生长方法,属于单晶退火工艺的技术领域,在单晶炉内设置内热屏、水冷套,所述内热屏位于硅溶液的上方,所述内热屏的下端内壁与单晶炉中轴线形成的角度为22.5°‑30°,所述水冷套位于所述内热屏的上方,所述水冷套与所述单晶炉的内壁连接,所述水冷套距硅溶液液面的高度为100mm‑300mm;在单晶炉内通入氩气,将单晶棒从硅溶液中拉出的拉速为1mm/min‑1.5mm/min,在单晶炉内建立有温度梯度的热环境,当单晶棒从硅溶液中拉出的过程中,晶棒的边缘温度与中心温度接近,使得将单晶棒从硅溶液中以预定的拉速拉出,使得整个晶棒在降温凝固时生长的界面更加趋于平坦,更加有利于高密度、颗粒直径小的COP形成。

基本信息
专利标题 :
应用于汉虹单晶炉的单晶退火产品的生长方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114277433A
申请号 :
CN202111601688.5
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
芮阳王忠保
申请人 :
宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司
申请人地址 :
宁夏回族自治区银川市经济技术开发区光明西路28号
代理机构 :
宁夏三源鑫知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
杨畅
优先权 :
CN202111601688.5
主分类号 :
C30B15/20
IPC分类号 :
C30B15/20  C30B29/06  C30B33/02  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/20
控制或调节
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 15/20
申请日 : 20211224
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332