一种用于LDI设备的内层对准的标记结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于LDI设备的内层对准的标记结构，属于电路板生产技术领域。根据本实用新型的标记结构包括：DMD(1)，光刻物镜(2)和对准标记模块；其中，DMD(1)和光刻物镜(2)为LDI设备的结构，对准标记模块与LDI设备上的载物台(8)连接；载物台(8)用于承载待曝光PCB板(7)；所述DMD(1)和所述光刻物镜(2)用于通过所述对准标记模块在所述待曝光PCB板(7)的B面曝光出靶标。本实用新型的所述标记结构通过LDI设备机台上的DMD和光刻物镜来曝光靶标，简化了LDI设备机台结构；并且，通过DMD和光学成像来曝光出靶标，既能够生成不同形状的靶标，并且曝光形成的靶标精度更高。
基本信息
专利标题 ：
一种用于LDI设备的内层对准的标记结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122863072.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-19
授权号 ：
CN216485985U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
肖燕青符祥震程珂
申请人 ：
江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路66号
代理机构 ：
哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司
代理人 ：
张碧珂
优先权 ：
CN202122863072.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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