一种具有烘干效果的硅片清洗装置
授权
摘要
本实用新型提供一种具有烘干效果的硅片清洗装置，属于硅片清洗技术领域，包括清洗舱，清洗舱内安装有清洗池，清洗池内储存有清洗液，清洗池的上侧设置有下置盒、上置盒和U形架，上置盒的一侧通过铰轴活动连接于下置盒，U形架位于上置盒的上侧，U形架上设置有转动组件，转动组件用于带动下置盒和上置盒旋转，清洗舱上设置有升降组件，升降组件用于带动下置盒和上置盒上下移动；实现快速清洗，提高清洗效率，同时下置盒和上置盒结合呈圆柱形，硅片放置于下置盒和上置盒之间的卡槽，限制硅片的位置，避免硅片堆叠在一起，保证足够的清洗效果，更完全的清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种具有烘干效果的硅片清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123362159.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
CN216460483U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
魏小刚游贤敏
申请人 ：
英乐威环保科技（常州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区罗溪镇黄河西路718号
代理机构 ：
北京市惠诚律师事务所
代理人 ：
周理工
优先权 ：
CN202123362159.2
主分类号 ：
B08B3/04
IPC分类号 ：
B08B3/04 B08B13/00 F26B23/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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