半导体结构及其制备方法、三维存储器
实质审查的生效
摘要
本公开提供了一种半导体结构及其制备方法、三维存储器、存储系统、电子设备,涉及半导体芯片技术领域,旨在改善相邻两个存储层之间相互串扰的现象。所述半导体结构包括存储堆叠结构、沟道结构和多个第二介质层。所述存储堆叠结构包括交替设置的多个第一介质层和多个栅极层。所述沟道结构贯穿所述存储堆叠结构,沿平行于所述存储堆叠结构所在平面的方向,所述栅极层与所述沟道结构之间的距离,大于所述第一介质层与所述沟道结构之间的距离。沿平行于所述存储堆叠结构所在平面的方向,所述第二介质层位于所述栅极层与所述沟道结构之间。上述半导体结构应用于三维存储器中,以实现数据的读取和写入操作。
基本信息
专利标题 :
半导体结构及其制备方法、三维存储器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114497061A
申请号 :
CN202210022908.7
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王均保李楷威王鹤林贾建权游开开崔佳萌张安
申请人 :
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 :
北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人 :
申健
优先权 :
CN202210022908.7
主分类号 :
H01L27/1157
IPC分类号 :
H01L27/1157 H01L27/11582 H01L27/11524 H01L27/11556
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/1157
申请日 : 20220110
申请日 : 20220110
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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