空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
精细加工技术领域的空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法，在圆柱形线圈绝缘性骨架上镀铜膜或别种金属膜，在其上涂覆光刻胶，分别制作三块弧面形成一块平面透明螺线模板和一个截顶45度内锥反射面，以一定的方式进行曝光，再将曝光后的工件投入显影和刻蚀工序制成单层载电流线圈。在已制成的单层线圈上镀绝缘层，再按上述方法制成多层载电流线圈。本发明取消线圈的绕制工艺，降低成本，提高了性能一致性和使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
空间投影无掩模光刻圆柱形线圈法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1064369A
申请号 ：
CN92101080.X
公开（公告）日 ：
1992-09-09
申请日 ：
1992-02-21
授权号 ：
CN1022874C
授权日 ：
1993-11-24
发明人 ：
袁绥华章锡元
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
710049陕西省西安市咸宁路28号
代理机构 ：
西安交通大学专利事务所
代理人 ：
田文英
优先权 ：
CN92101080.X
主分类号 ：
H01F41/04
IPC分类号 ：
H01F41/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01F
磁体；电感；变压器；磁性材料的选择
H01F41/00
专用于制造或装配磁体、电感器或变压器的设备或方法；专用于制造磁性材料的设备或方法
H01F41/02
用于制造磁芯、线圈或磁体的
H01F41/04
用于制造线圈的
法律状态
1998-04-15 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-11-24 ：
授权
1992-09-09 ：
公开
1992-08-19 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1022874C.PDF
PDF下载
2、
CN1064369A.PDF
PDF下载
